等離子清洗機（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子處理機廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離子晶圓去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理等場合。

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增加染料的表面極性，青海等離子晶原除膠機可以增強染料對纖維的吸附力，減小染料向纖維擴散的空間阻力，提高毛染色性。研究發(fā)現(xiàn)，經(jīng)過CF4等離子體處理，羊絨表面潤濕性能有所下降，但著色率基本不變。研究發(fā)現(xiàn)，引起纖維潤濕性提高的主要原因并非在于提高著色速率，而是因為鱗片中胱氨酸二硫鍵被破壞，使染料容易在纖維中擴散。

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這是一種特殊的“氣體”，由帶正電和帶負電的粒子在電場作用下電離特定氣體以特定速率組成。由于機械壓縮、磁收縮和熱收縮，等離子體能量非常集中。由于噴涂的主要材料是粉狀材料，不同粉狀材料的混合比例允許不同的亞合金涂層具有不同的性能要求。等離子噴涂技術(shù)已成為一種制備耐磨、抗劃傷、導(dǎo)電、隔熱、絕緣、防腐等特殊用途的表面涂層的多功能表面處理工藝，正在得到應(yīng)用。惰性氣體氬氣常用或補充有氬氣、氮氣或氦氣。

與目前主流的蝕刻工藝一樣，蝕刻溫度也是一個重要參數(shù)。有趣的是，石墨的蝕刻速率并不隨溫度線性變化，而是在450°左右有一個峰值。更有趣的是不同厚度石墨烯的不同刻蝕率，以及不同溫度下單層或雙層石墨烯的不同刻蝕率。可以看出，單層的石墨烯蝕刻速率遠快于雙層的石墨烯蝕刻速率。

3種電漿清洗的反應(yīng)詳細介紹 ： 一、化學(xué)反應(yīng)電漿清洗 采用等離子中的高活性自由基和材料表層的有機物進行化學(xué)反應(yīng)，也稱為PE。采用氧氣清洗，使非揮發(fā)性有機物變成揮發(fā)性形式，產(chǎn)生二氧化碳。一氧化碳和水。化學(xué)清洗的優(yōu)勢是清洗速度高。選擇性好，對清洗有機污染物質(zhì)更有效的，主要缺點是產(chǎn)生的氧化物可能會在材料表層再次形成。在導(dǎo)線鍵環(huán)節(jié)中，氧化物是最不希望的，這一些缺點可以通過適當?shù)墓に噮?shù)來避免。

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當機械作用于材料表面時，青海等離子晶原除膠機產(chǎn)生的正負電離等離子體可以對LED材料表面進行化學(xué)清洗。在分子水平上實現(xiàn)污漬的去除（去除），去除（去除）有機物、氧化物、環(huán)氧樹脂、細顆粒等表面污漬。當用等離子表面處理機產(chǎn)生的等離子體處理PPPE等塑料時，非極性材料（活化劑）以表面活性劑（化學(xué)）、表面蝕刻、表面接枝、表面聚合、表面增加等形式進行處理。聚合。確保粘合劑的可靠粘合和長期密封。

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