1、硅片表面改性（硅片表面改性機(jī)械性能）OTS作硅片表面改性

常用的清洗技術(shù)有濕法清洗和干洗兩大類(lèi)，硅片表面改性機(jī)械性能濕法清洗仍是行業(yè)的主流，占清洗步驟的90%以上。濕法工藝是指用耐腐蝕和氧化性的化學(xué)溶劑對(duì)缺陷進(jìn)行噴射、擦洗、蝕刻等隨機(jī)處理，并將雜質(zhì)溶解在晶圓表面與反應(yīng)溶劑直接生成可溶性物質(zhì)、氣體或損耗，并使用超純水清洗硅表面并干燥，滿(mǎn)足硅片的潔凈度要求。為...

2、arcotec電暈機(jī)（德國(guó)arcotec電暈處理器）

采用交流時(shí)，arcotec電暈機(jī)只能選擇電信規(guī)定的科研和工業(yè)使用頻段(MF)40kHz、高頻(HF)13.56MHz、微波頻率(MW)2.45CHz，否則會(huì)干擾無(wú)線帶電信件。一般是等離子體的產(chǎn)生和材料的位置。合理的效果（結(jié)果）與以下幾個(gè)方面有關(guān)。等離子體清洗一般采用工藝氣體，活（化）氣可分為兩類(lèi)。類(lèi)...

3、電暈處理的otr（山西低溫等離子電暈處理機(jī)說(shuō)明書(shū)）

DielectricBarrierDirection（dielectricBarrierDirection）（簡(jiǎn)稱(chēng)DBD）是指在兩個(gè)金屬電極之間放置絕緣介質(zhì)，電暈處理的otr阻隔跨越板間氣隙的放電通道，使氣隙通道中的放電得以放電電不產(chǎn)生電弧，而是以燈絲放電的形式存在，等離子體低溫等離子體彌散在其中，...