在磁場作用下，電暈處理機(jī)的5個優(yōu)點碰撞形成電暈表面處理，同時會產(chǎn)生輝光。電暈表面處理在電磁場中運動，轟擊被處理物體表面，從而達(dá)到表面處理、清洗和蝕刻的效果。與傳統(tǒng)的使用有機(jī)溶劑的濕式清洗相比，電暈表面處理具有以下優(yōu)點：1.清洗對象經(jīng)電暈后干燥，無需進(jìn)一步干燥處理即可送入下一道工序?？商岣哒麄€工藝線的加工效率；2.無線電波范圍內(nèi)高頻產(chǎn)生的電暈表面處理不同于激光等直射光。

隨著半導(dǎo)體工藝的發(fā)展，河?xùn)|免電暈處理油墨價格由于其固有的局限性，濕法刻蝕逐漸限制了其發(fā)展，因為它已經(jīng)不能滿足微米甚至納米級微細(xì)導(dǎo)線的超大規(guī)模集成電路的加工要求。晶圓電暈刻蝕機(jī)干法刻蝕因其離子密度高、刻蝕均勻、表面光潔度高等優(yōu)點，在半導(dǎo)體加工工藝中得到了廣泛的應(yīng)用。電暈刻蝕機(jī)是一種多功能的電暈設(shè)備，可配置不同部件，如表面電鍍、刻蝕、電暈化學(xué)反應(yīng)、粉末電暈處理等。電暈刻蝕機(jī)對晶圓具有良好的刻蝕效果。

低溫電暈中粒子的能量一般在幾到十電子伏特左右，電暈處理機(jī)的5個優(yōu)點大于高分子材料的結(jié)合鍵能（幾到十電子伏特），可以完全打破有機(jī)大分子的化學(xué)鍵，形成新的鍵；但遠(yuǎn)低于高能放射線，只涉及材料表面，不影響基體的性質(zhì)。在非熱力學(xué)平衡低溫電暈中，電子具有更高的能量，可以打破材料表面分子的化學(xué)鍵，提高粒子的化學(xué)反應(yīng)活性（高于熱電暈），而中性粒子的溫度接近室溫。這些優(yōu)點為熱敏性聚合物的表面改性提供了適宜的條件。

設(shè)電子密度為Ne，電暈處理機(jī)的5個優(yōu)點離子密度為Nj，中性粒子密度為ng。顯然，對于單一大氣、只有一級電離的電暈，存在ne=ni，n可以用來表示任一帶電離子的密度，簡稱電暈密度。當(dāng)然，對于混合氣體電暈或多階電離的電暈，可能存在不同價態(tài)的離子和不同種類的中性粒子，因此電暈中的電子密度和離子密度并不相等。

電暈處理機(jī)的5個優(yōu)點

處于電暈狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。在真空室內(nèi)，射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能量的無序電暈，電暈轟擊清洗后的產(chǎn)品表面。電暈達(dá)到清洗的目的。

可見，采用各種表面技術(shù)加強(qiáng)材料的表面保護(hù)，具有重要的經(jīng)濟(jì)意義和社會效益。

從正常能量發(fā)射：氣體>液體>固體的角度來看，電暈的能量比氣體高，而且能表現(xiàn)出普通氣體所不具備的特性，因此也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。一般情況下，氣體離子會形成電子-正離子結(jié)合。當(dāng)它們回到中性分子狀態(tài)時，這一過程中產(chǎn)生的電子和離子的部分能量以不同形式被消耗掉。例如，電磁波和分子解離常產(chǎn)生自由基，自由基產(chǎn)生電子與中性原子結(jié)合，分子產(chǎn)生負(fù)離子。因此，整個真空電暈是電子正負(fù)離子、原子和自由基激發(fā)的原子混合態(tài)。

處于電暈狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。在真空室內(nèi)通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序電暈，用等體子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達(dá)到清洗的目的。

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