以下三步蝕刻反應如下：化學吸附:F2&RARR；F2(ADS)&RARR；2F(ads)反應:Si+4F(ads)&RARR；SiF4(ads)解吸:SiF4(ads)&RARR；SiF4（氣體）在刻蝕過程中，中山市金屬膜電暈處理機高密度電暈源具有更精確的工件尺寸控制、更高的刻蝕速率和更好的材料選擇性等優(yōu)點。高密度電暈源可以在低電壓下工作，因此可以減弱鞘層振蕩。

結果表明，中山市金屬膜電暈處理機激發(fā)頻率為13.56MHz的氫氣和氬氣混合氣體能有效去除鉛結構金屬層上的污染物，氫電暈能去除氧化物，氬離子化能促進氫電暈數量的增加。。電暈廣泛應用于電子工業(yè)、手機制造、汽車制造、紡織工業(yè)、生物醫(yī)藥、新能源工業(yè)和航空航天等領域。

氣路的選擇普通真空電暈是兩個氣路，中山市金屬膜電暈處理機但這并不能滿足所有的加工需要，如果對氣路的需求較多，那么氣路會適當增加，這也是根據客戶的實際需要選擇幾個氣路。。

電暈技術的清洗類型：根據反應類型的不同，中山市金屬膜電暈處理機電暈清洗技術可分為兩種：電暈物理清洗，即通過活性粒子和高能射線轟擊分離污染物；電暈化學清洗，即活性粒子與雜質分子反應揮發(fā)污染物。效果和特點：與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同，電暈依賴于其中所含的高能物質&ldquo；激活&rdquo；達到了清洗材料表面的目的，清洗效果顯著。這是一個剝離清潔。

電暈處理為何有時效性

通常情況下，物質以固態(tài)、商業(yè)態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下可以以第四種狀態(tài)存在，比如太陽表面的物質、地球大氣層電離層的物質等。這類物質的狀態(tài)稱為電暈態(tài)，也稱為勢物質的第四態(tài)。以下物質存在于電暈中。高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；分子解離反應過程中產生的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質作為一個整體保持電中性。

中山市金屬膜電暈處理機